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    高精度溫控設備 半導體專用工藝過程恒溫器

    簡要描述:【無錫冠亞】高精度溫控設備 半導體專用工藝過程恒溫器 ,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    • 產(chǎn)品型號:SUNDI-275
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時間:2024-03-29
    • 訪  問  量:409
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷價格區(qū)間10萬-20萬
    產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合


    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質(zhì)溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統(tǒng)

    前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協(xié)議

    MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

    導熱介質(zhì)溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統(tǒng)

    整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風)cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規(guī)重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


     

     

      中試實驗是新產(chǎn)品或新工藝從實驗室研究到大規(guī)模生產(chǎn)之間的過渡階段,為大規(guī)模生產(chǎn)提供可靠的技術支持。在這一過程中,冷熱溫控設備的應用顯得重要。

      一、冷熱溫控設備在中試實驗中的重要性

      冠亞制冷中試實驗通常需要模擬產(chǎn)品在實際使用環(huán)境中的各種條件,包括溫度、壓力等。其中,溫度是影響產(chǎn)品性能和使用壽命的因素之一。因此,在中試實驗中,對溫度進行準確控制至關重要。冷熱溫控設備能夠通過調(diào)節(jié)環(huán)境溫度,為實驗提供穩(wěn)定、可靠的溫度條件,從而確保實驗結果的準確性和可靠性。

      在中試實驗中,根據(jù)實驗需求選擇合適的冷熱溫控設備是重要。例如,在電子產(chǎn)品研發(fā)過程中,需要測試產(chǎn)品在高溫和低溫條件下的工作性能,這時就需要使用冷熱溫控設備。在生物醫(yī)藥領域,需要模擬不同溫度條件下的藥物穩(wěn)定性實驗。

      二、冷熱溫控設備在中試實驗中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

     ?。ㄒ唬﹥?yōu)勢

      1、提高實驗效率:通過準確控制溫度,冷熱溫控設備可以縮短實驗周期,提高實驗效率。

      2、保障實驗準確性:穩(wěn)定的溫度環(huán)境有助于減少實驗誤差,提高實驗結果的準確性。

      3、拓展實驗范圍:冷熱溫控設備可以模擬各種嚴苛環(huán)境條件,拓展實驗范圍,為產(chǎn)品研發(fā)提供更有力的支持。



      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

    高精度溫控設備 半導體專用工藝過程恒溫器

    高精度溫控設備 半導體專用工藝過程恒溫器


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