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簡要描述：制冷加熱循環(huán)一體機，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。反應釜加熱冷卻裝置控溫說明
產(chǎn)品型號：SUNDI-575廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2024-01-06訪 問 量：486| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
反應釜加熱冷卻裝置控溫說明
反應釜加熱冷卻裝置控溫說明
反應釜加熱冷卻裝置可以加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫，溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。如果反應釜加熱冷卻裝置發(fā)生故障的話，要查找出正確的原因，然后用相應的方法來解決處理。
反應釜加熱冷卻裝置采用配件，高性價比配置，提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。
反應釜加熱冷卻裝置是對反應釜以及各種反應器進行控溫使用的設(shè)備，利用壓縮機制冷，導熱油加熱使冷槽內(nèi)介質(zhì)獲取低溫，通過加熱器加熱使容腔內(nèi)介質(zhì)獲取高溫，通過冷熱過程使槽內(nèi)介質(zhì)溫度達到用戶所需。
反應釜加熱冷卻裝置適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制，線性控制釜內(nèi)物料溫度，可以選擇程序控制模式，導熱介質(zhì)和物料的溫差也可設(shè)定，冠亞整個反應釜加熱冷卻裝置系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán)，高溫時不會產(chǎn)生油霧，低溫時不會吸收水分，系統(tǒng)中有膨脹罐，在制冷加熱過程中導熱介質(zhì)熱脹冷縮。
