反應器高低溫循環(huán)裝置-冷熱循環(huán)實驗

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

反應器高低溫循環(huán)裝置-冷熱循環(huán)實驗

反應器高低溫循環(huán)裝置-冷熱循環(huán)實驗

　　反應器高低溫循環(huán)裝置是無錫冠亞針對制藥、化工等多個行業(yè)進行制冷加熱動態(tài)控溫使用的設備，那么，對于反應器高低溫循環(huán)裝置的使用，大家都了解多少呢？

　　反應器高低溫循環(huán)裝置采用單機自復疊制冷技術(shù)，經(jīng)過無錫冠亞多年試驗研發(fā)而成，反應器高低溫循環(huán)裝置具有加熱和制冷功能，是高精度恒溫源。反應器高低溫循環(huán)裝置廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門、高等院校、企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門，為用戶工作時提供一個冷熱受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境。反應器高低溫循環(huán)裝置可用于直接加熱或制冷或作為輔助加熱或制冷的溫度來源,如對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫。

　　反應器高低溫循環(huán)裝置使用方法是加導熱合成油及電源連接。將反應器高低溫循環(huán)裝置出液口與二現(xiàn)場連接，將循環(huán)裝置進液口與二現(xiàn)場出口連接，使成為密閉循環(huán)系統(tǒng)。反應器高低溫循環(huán)裝置采用三相五線制（三根火線，一根零線，一根地線）將電源接上，如果線續(xù)出錯（電路中的相續(xù)保護器指示燈為紅色）需更換任意兩根火線位置，直到相續(xù)保護器指示燈為綠色才正確。

　　反應器高低溫循環(huán)裝置也可稱為高低溫一體機、制冷加熱動態(tài)控溫系統(tǒng)，用戶在使用反應器高低溫循環(huán)裝置的時候，盡量按照使用說明進行操作。