【無錫冠亞】硅片快速冷卻裝置 晶圓快速水冷機 ，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設計、循環(huán)泵采用磁力驅動泵，經過24小時連續(xù)運行拷機。

【無錫冠亞】硅片冷卻裝置 單晶硅冷卻冷凍機 冷水機 ，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應用與半導體生產過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設計、循環(huán)泵采用磁力驅動泵，經過24小時連續(xù)運行拷機。

【無錫冠亞】反應裝置低溫循環(huán)設備 數據中心chiller ，冠亞制冷設備制冷溫度范圍從-150度到-5度，可滿足不同制冷溫度需求。產品廣泛應用于化工、制藥、生化、新能源、元器件等行業(yè)低溫反應領域，制冷速度快，安全可靠。

【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。電子元器件循環(huán)制冷機 半導體溫控機

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