微反應器配套TCU高低溫循環(huán)裝置怎么實現(xiàn)物料制冷加熱溫度控制

　　TCU高低溫循環(huán)裝置是一款可以配套反應釜、反應器進行制冷加熱控溫來滿足實驗冷源和熱源的控溫需求，在各種實驗反應過程中，微反應器配套TCU高低溫循環(huán)裝置怎么實現(xiàn)物料制冷加熱溫度控制的呢？

　　微反應器是通過一定的設計要求實現(xiàn)流體的混合換熱，可以均勻傳熱或即時傳熱的實驗器材，用戶在選擇TCU高低溫循環(huán)裝置配套的反應器時涉及反應穩(wěn)定性、換熱效率、反應速度等精細管理和監(jiān)測。如果選擇不當，反應結果將不準確，影響材料濃度、反應溫度、反應壓力等結果數(shù)據(jù)，因此，微反應器的溫度控制非常重要。

　　在使用TCU高低溫循環(huán)裝置控制微反應器的溫度時，高精度溫度控制可以使微反應器避免局部溫度過高或飛溫等故障。例如，在微反應器中進行硝化反應時，反應溫度對反應的影響很大。相應的熱量可以及時從反應中移除，提高工藝生產的穩(wěn)定性，避免反應散熱不均勻造成的一些故障。如果溫度控制不準確，副反應會增加，容易引起硝化反應問題。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置可以改變控制設定值的方法，可以在響應過程中盡快落后于系統(tǒng)，得到非常小的系統(tǒng)過沖。TCU高低溫循環(huán)裝置控制由兩組PID(每組PID可變)控制電路組成。這兩組控制電路稱為主電路和從電路，主電路的控制輸出作為從電路的設定值。系統(tǒng)采用帶前饋PV的PID輸出和帶前饋PV信號作為控制電路的設定值。利用這種溫度變化梯度控制，保證了系統(tǒng)的溫度控制精度。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置專門設計的滯后估計器(無模型自建計算方法)產生動態(tài)信號yc(t)作為反饋信號，而不是過程變量y(t)。TCU高低溫循環(huán)裝置對控制器產生e(t)信號，使控制器預測控制效果不大滯后，使控制器始終能夠產生適當?shù)目刂菩盘枴?/span>TCU高低溫循環(huán)裝置利用三點采樣(物料溫度點、溫度控制系統(tǒng)出口溫度、溫度控制系統(tǒng)溫度)樹計算方法與普通抗滯后串及計算方法相結合。

配備微反應器的TCU高低溫循環(huán)裝置可用于多種多樣醫(yī)藥化工制造行業(yè)，連接反應器，實現(xiàn)制冷加熱溫度的控制，為反應器的多種多樣吸熱和放熱反應提拱相應的冷源和熱源。目前，TCU高低溫循環(huán)裝置制造商較多，技術能力不均勻。無錫冠亞建議采用PLC程序控制模式，可設置導熱介質和材料溫差，可提供高精度線性材料的溫度控制效果。